이용료

  • Home
  • RESERVATION
  • 이용료

반도체 공정연구센터 요율 및 사용절차

기본요금(원)
분류 장비명 학내 대학연구소 기업체 추가 요금 및 안내 사항
청정실 청정실 입실료 100,000 160,000 320,000 6개월 입소기준, 일괄징수
년2회(3.1/9.1)
분류 장비명 직접 사용 공정 의뢰 추가 요금 및 안내 사항
측
정
/
분
석		 EDS 16,000/run 24,000/run SEM 사용료에 추가
4-Point Probe System 청정실 입실자 무료 24,000/시간  
a-step (Step Height Measurement) 청정실 입실자 무료 24,000/시간  
Ellipsometer 청정실 입실자 무료 24,000/시간  
Hall Effect Measurement System 24,000/시간 36,000/시간 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
Nanospec (Thin Film Thickness Measurement System) 청정실 입실자 무료 24,000/시간  
Network Analyzer 5,000/시간 10,000/시간 Parameter Analyzer에 추가
Digital Oscilloscope 24,000/시간 해당없음 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
Parameter Analyzer 일반형 24,000/시간 36,000/시간 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
(Probe staion 포함)
진공챔버형 36,000/시간 48,000/시간
Optical Microscope 청정실 입실자 무료 해당없음  
Optical Microscope
(Yellow Room)		 청정실 입실자 무료 해당없음  
Probe Station 일반형 24,000/시간 36,000/시간 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
(Probe staion 개별 사용시에 부과)
진공챔버형
 36,000/시간 48,000/시간
C-V meter
(with DC Probe-S)		 24,000/시간 36,000/시간 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
LD Tester set 24,000/시간 36,000/시간 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
Spectrum Analyzer 5,000/시간 10,000/시간 Parameter Analyzer에 추가
Scanning Probe Microscope (SPM) 28,000/시간 48,000/시간 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
(Tip 별도)
Burn in tester
(with DC Probe-S)		 24,000/시간 36,000/시간 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
RLC Tester 13,000/시간 20,000/시간  
FE-SEM 37,000/시간 54,000/시간
LED Tester 24,000/시간 36,000/시간 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
AFM 28,000/시간  48,000/시간  Tip 교체시 비용 40,000(별도부과)
Laser Microscope 24,000/시간  36,000/시간   
FIB 160,000/시간    200,000/시간 기본 2시간
Raman Spectrum(point) 24,000/Point  30,000/Point   
Mapping, img 측정  80,000/시간 100,000/시간   
특수실험, In-situ 실험  250,000/시간 300,000/시간  
L
i
t
h
o		 Contact Aligner(MA6) 24,000/wf 36,000/wf Align 필요시 12,000원 추가
(공정 제공 시)
Spin Coater 16,000/wf 24,000/wf  
PR-Asher(Low Pressure Plasma System) 28,000/run 40,000/run 웨이퍼 3장 기준
Hot Plate 청정실 입실자 무료 해당없음  
SEM Lithography 264,000/시간 440,000/시간  
SRD (Spin Rinse Dryer) 10,000/run 15,000/run  
Wet station Organic 72,000/기본 96,000/기본 Chemical 포함
Acid 72,000/기본 96,000/기본
Yellow Room 40,000/기본 64,000/기본
증
착		 E-Beam evaporator 80,000/run 120,000/run 증착시간 2시간/증착두께 1㎛ 이상 2배
Ion Sputter (SEM) 청정실 입실자 무료 10,000/run - Pt coating 1건당 (공정 제공 시)
MOCVD 240,000/run 320,000/run 1 ㎛ 기준 초과 시 기본료 재부과
PECVD 56,000/run 80,000/run run 회수 1회 추가당 80% 추가
ALD 64,000/run 80,000/run 10 ㎚ 기준
Au plating 48,000/기본+48,000/wf 64,000/기본+64,000/wf 100 ㎚ 초과 시 웨이퍼당 16,000원 추가
Sputter Au 48,000/기본+48,000/wf 64,000/기본+64,000/wf 100 ㎚ 초과 시 웨이퍼당 16,000원 추가
Metal 48,000/기본+32,000/wf 64,000/기본+40,000/wf 100 ㎚ 초과 시 웨이퍼당 4,000원 추가
Oxide 48,000/기본+32,000/wf 64,000/기본+40,000/wf
열
처
리		 LP-Furnace 200,000/기본+16,000/시간 320,000+16,000/시간 200 ㎚ 초과 시 기본요금의 두 배
RTA 32,000/run 48,000/run  
식
각		 ICP Cl  56,000/run 80,000/run   
F 51,000/run 80,000/run
Deep Etcher 120,000/run  160,000/run   
후
공
정		 CMP(Lapping & Polishing) 64,000/wf 112,000/wf  
Wafer Scriber (only Si) 20,000/wf 20,000/wf + 24,000/시간 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
Wire Ball Bonder
(Wedge)		 24,000/시간 36,000/시간 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
Die Bonder 24,000/시간 36,000/시간 1시간 초과 시 시간당 50% 추가
시
뮬
레
이
션		 Simulation(Silvaco/
Light Tools)
 240,000 (7,500) 해당없음 1개 라이센스 1년 사용 시 (1일 사용 시)

할인율과 사전협의가 필요한 사항

  • 1. SPRC(반도체과학기술학과) 소속 교수 및 학생 - 70%
  • 2. 학내 교수 및 학생, 입주기업 - 50%
  • 3. 타 대학, 연구소(비영리에 한함) - 20%
  • 4. 장비 운영/관리자의 교육 - 무료
  • 5. 월간 1,000 만원 이상 사용하는 경우 - (사전협의)
  • 6. 기타, 특수 사정에 따라 요청되는 경우 - (사전협의)
  • ※ 중복할인은 불가하며, 웨이퍼와 같이 실비가 소요되는 비용(입실료 포함)은 할인대상에서 제외
  • ※ 기타 자세한 사항은 홈페이지(sprc.jbnu.ac.kr)와 Tel. 063-270-4491로 문의해 주시기 바랍니다.